1、要引入的目标区域与源区域相同时（即没有位移和旋转设置），会得到比较一致的结果，否则结果会相差很大。是否是设置的问题？
2、从天线的方向性图还考虑，即使目标区域与源区域相同，增益和方向性的值也会存在一定偏差（用的是双锥天线），只能保证趋势相同。我现在只想到通过改变目标区域的形状来对引入源进行优化，使其接近源天线参数。还存在其他的优化方式吗？
另外：关于引入源，若那位高人有其他心得，也请不吝赐教。
我只用过incident wave 中的plan wave 来算物体的RCS。
对其它的源也没有仔细去研究过！
不知道楼主加这样的源是用来算什么的？
没有用过楼主说的东东。
呵呵。学习了。
同问源主要用在哪些个方面？
我的引入源主要用来计算RCS，还有模式引入等，不知有哪位提供。谢谢了
嗯
我也是
看来HFSS不知道的还真是太多了
用于检测仪器中的点源是不是也在这个近场引入源之中呢?最近有个网友在做医学检测方面的仿真,我在想那个点源应该就是用这个设置
有兴趣的朋友来看下这篇文章,看下这个作为激励的点源该如何设置
HFSS环境下乳腺肿瘤微波近场仿真.rar (539 K)
声明：网友回复良莠不齐，仅供参考。如需更专业、系统的学习HFSS，可以购买本站资深专家讲授的HFSS视频培训课程。
